Esposizione  [ Torna indietro  Produzione di semiconduttori  ]

Il wafer di silicio viene esposto in uno stepper a dei raggi ultravioletti. I raggi UV raggiungono la superficie attraverso una maschera che più tardi rifletterà la struttura del componente elettronico, in modo che solamente delle zone selezionate del photoresist vengano esposte. Come fonte di luce servono dei laser nei quali, oltre ad altri media vengono usati anche dell'azoto ultra puro, dell'aria compressa estremamente pura, delle miscele di gas laser come il fluoro-cripto-neon e il cripto-neon.

 

Settori di attività

Contattaci

  • Per telefono
    +41 (0) 31 950 50 50 
  • fax
    +41 (0) 31 950 50 51
  • posta
    Carbagas AG
    Hofgut
    3073 Gümligen


Contattaci:
Cliccare qui