Cette étape du processus permet d’enlever de la plaquette de silicium les couches d’aluminium et, de cette manière, de fabriquer des pistes. Pour cela, on positionne la plaquette dans la chambre d’érodage et la pose sur un potentiel électrique négatif. La chambre est échauffée à une température d’environ 100 °C, évacuée puis noyée avec un plasma de gaz à charge positive (habituellement un mélange d’azote, de chlore et de trichlorure de bore). Les charges opposées entraînent une orientation verticale des molécules de plasma et, en corollaire, un procédé de « jet de sable » microscopique, chimique et physique qui fait disparaître la couche d’aluminium.

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