Ashing  [ Retour vers  Production de semi-conducteurs  ]

Une fois que l’on a fabriqué une couche de silicium, de métal ou de silicide, la laque photosensible subsistante doit être enlevée à l’occasion de ce que l’on appelle un processus « d’ashing », de décrassage. Pour cela, on génère un plasma gazeux à haute température dans lequel la laque est enlevée sans détruire la couche sous-jacente.