Implantation [ zurück Halbleiterproduktion ]

Beim Implantieren werden die Ionen eines bestimmten Dotanten mit Hilfe von Beschleunigerröhren auf die Waferoberfläche geschossen, wodurch die elektrischen Eigenschaften genau defininierter Bereiche der Schicht verändert werden können. Als Lieferanten für die Dotierionen kommen Gase wie Arsin, Phosphin, Diboran, Bortrichlorid und Bortrifluorid zum Einsatz.