Drehen - Spülen - Trocknen  [ zurück  Halbleiterproduktion  ]

Trotz vieler aufwändiger Massnahmen zur Erzeugung und Aufrechterhaltung einer von Verunreinigungen freien Reinraumatmosphäre ist es unerlässlich, die Wafer immer wieder zu reinigen. Da dies ein sehr häufiger und wichtiger Prozessschritt ist, wird hierfür ein spezielles Tool, der SRD (Spin, Rinse, Dryer) eingesetzt. Der SRD reinigt die Wafer mit DI-Wasser und trocknet sie mit hochreinem Stickstoff.